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Der FRT CWL HR erreicht unter Verwendung einer IR-SLD als Lichtquelle
und durch eine speziell modifizierte Optik die höchste Lateralauflösung und den kleinsten Messfleckdurchmesser der gesamten CWL Sensorfamilie. Gemessen wird nach dem Prinzip der chromatischen Aberration. Das zerstörungsfreie Verfahren arbeitet gleichermaßen zuverlässig auf stark und gering reflektierenden Oberflächen. Eingesetzt wird der CWL HR zur Charakterisierung von Strukturgrößen im lateralen Mikrometer- und vertikalen Sub-Mikrometer-Bereich. Typische Anwendungsbeispiele finden sich in den Branchen Halbleiter, MEMS und Nanotechnologie.
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- Optische, berührungslose, zerstörungsfreie Messung
- Sub-μm laterale Auflösung, sehr kleiner Messfleck
- Hohe numerische Apertur für die Messung steiler Flanken
- Hervorragendes Signal-/ Rauschverhältnis
- Kleiner, robuster, verschleißfreier Messkopf
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- 2D-Profilmessung
- 3D-Topographiemessung
- Flankenmessung
- Strukturmessung
- Punktmessung
- Schnelle Profil- und Topographiemessungen, auch auf empfindlichen Oberflächen
- Messung feiner Strukturen in der Mikrosystemtechnik und der Nanotechnologie
- Messung dünner transparenter Schichten
- Messung von Stufenhöhen, Abständen, Winkeln in der Elektronik- und Halbleiterfertigung
- Geometriekontrolle beim Mikro-Spritzguss
- Oberflächencharakterisierung in der Medizintechnik
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| Messbereich z |
100 µm |
| Arbeitsabstand
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6,5 mm |
| Auflösung z
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10 nm |
| Auflösung x,y
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0,7 µm |
| Numerische Apertur
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0,66 |
| Messwinkel
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90° ± 40 ° |
| Sensorelektronik |
CWL HR |
| Messrate
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4.000 Messungen / Sek.
(4 kHz)
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| Lichtquelle
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IR-Superlumineszenzdiode |
| Wiederholbarkeit
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< 0,0002 x Messbereich
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| Messgenauigkeit
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< 0,00033 x Messbereich + 0,001 x Messhöhe
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| Kalibriertabellen
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16
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| Betriebstemperatur
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+ 5° C bis + 50° C
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| Abmessungen (B x H x T)
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260 mm x 115 mm x 310 mm
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| Lieferumfang |
| Messkopf, optische Faser, Sensorelektronik, Handbuch
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