Die Messung dünner Schichten mit dem FRT FTR beruht auf der spektralen Auswertung der Überlagerungen von Teilwellen, die an den Grenzflächen einer Schicht reflektiert werden. Bei gegebener Schichtdicke und Brechzahl variiert die Intensität der überlagerten Teilstrahlen mit der Wellenlänge. Beim FRT FTR wird die zu messende Schicht an den gemessenen spektralen Verlauf gefittet. So können auch sehr dünne Schichten bestimmt werden.

zerstörungsfreie, berührungslose Messung hohe Auflösung und Genauigkeit leichter Messkopf ohne beweglich Elemente geeignet für transparente, glatte Schichten Untersuchung auch von Mehrschichtsystemen	Datenblatt Hauptprospekt
Messung von dünnen Schichten in der Halbleiterindustrie, z.B. Oxide, Nitride, ITO usw. Messung der Dicke von Fotolacken transparente Schichten auf Stahlblech dünne Schichten in der Optikindustrie Messung von Lack- und Foliendicken Untersuchung von Mehrschichtsystemen (optional)

Messprinzip Reflektometrie Lichtquelle Halogenlampe Deuterium Halogenlampe Typ VIS NIR VIS/NIR UV/VIS UV/VIS/NIR Wellen- längenbereich 400 nm ... 850 nm 650 nm ... 1100 nm 400 nm ... 1100 nm 250 nm ... 850 nm 25 nm ... 1100 nm Messbereich Schichtdicke 50 nm ... 20 μm 70 nm ... 70 µm 50 nm ... 100 μm* 10 nm ... 20 μm 10 nm ... 70 μm Auflösung Schichtdicke 1 nm Auflösung x,y 200 μm ... 800 μm ohne Abbildungsoptik (besser als 10 μm mit Zusatzoptik) *optional 1 μm ... 250 μm Technische Änderungen vorbehalten.